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Gd3Ga5O12晶體基片

簡(jiǎn)要描述:釓鎵石榴石(GGG)是用于磁光薄膜(YIG或BIG薄膜)的基片.在光通訊設(shè)備中,YIG或BIG薄膜是1.3及1.5光隔離器的核心部件.不同晶向的GGG單晶基片可以與這類(lèi)薄膜有Z佳的晶格匹配, 且GGG具有良好的物理、機(jī)械性能和化學(xué)穩(wěn)定性,從而保證薄膜成功的外延生長(zhǎng)。同時(shí)GGG也是制作微波隔離器的Z佳基片材料。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-02-10
  • 訪  問(wèn)  量:2143

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品名稱(chēng):

釓鎵石榴石(Gd3Ga5012)晶體基片


產(chǎn)品簡(jiǎn)介:

釓鎵石榴石(GGG)是用于磁光薄膜(YIG或BIG薄膜)的基片.在光通訊設(shè)備中,YIG或BIG薄膜是1.3及1.5光隔離器的核心部件.不同晶向的GGG單晶基片可以與這類(lèi)薄膜有*的晶格匹配, 且GGG具有良好的物理、機(jī)械性能和化學(xué)穩(wěn)定性,從而保證薄膜成功的外延生長(zhǎng)。同時(shí)GGG也是制作微波隔離器的*基片材料。


技術(shù)參數(shù):

晶體結(jié)構(gòu)

立方:a =12.376 ?

熔點(diǎn)

1800 oC        

密度

7.09g/cm3  

硬度

6.5  mohs

折射率

1.95

晶體純度

> 99.99%

晶體生長(zhǎng)方法

提拉法

晶體生長(zhǎng)方向

<111>


產(chǎn)品規(guī)格:

常規(guī)晶向:<100>、<110>、<111>;


晶向公差:±0.05°


常規(guī)尺寸:10x10mm,15x15mm,dia1",dia2",dia3" 厚度0.5mm


拋光情況:細(xì)磨、單拋、雙拋


表面粗糙度:Ra<5A

注:可以根據(jù)客戶需要提供特殊尺寸及方向的基片。


標(biāo)準(zhǔn)包裝:

1000級(jí)超凈室100級(jí)超凈袋包裝

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